Двулучевой электронный микроскоп Scietex FIB-SEM Y30 - Научные технологии и сервис
info@scietex.ru +7 499 911 90 01

Двулучевой электронный микроскоп Scietex FIB-SEM Y30

Двулучевой микроскоп Scietex FIB-SEM Y30. Купить в Научные технологии и сервис

Scietex FIB-SEM Y30 - полностью автоматизированная двулучевая система с электронной колонной UHR-SEM и фокусированным ионным пучком на основе источника Ga. Прибор предназначен для прецизионной пробоподготовки, сверхвысокоразрешающей СЭМ-визуализации, 3D-реконструкции, микро- и нанообработки, а также решения задач прототипирования.

Описание

Scietex FIB-SEM Y30 объединяет возможности сканирующего электронного микроскопа сверхвысокого разрешения и фокусированного ионного пучка. Электронная колонна с полевым эмиссионным источником обеспечивает высококачественную визуализацию при низких напряжениях, а Ga-FIB колонна позволяет выполнять локальную обработку, травление, формирование поперечных сечений, подготовку ПЭМ-образцов и нанесение материалов методом ионно-лучевого осаждения.

Система рассчитана на работу с современными материалами сложного состава и структуры: металлами, магнитными материалами, непроводящими и зарядонакапливающими образцами, материалами, чувствительными к электронному пучку, а также объектами для микроэлектроники, материаловедения и исследований аккумуляторных материалов.

Автоматизированное программное обеспечение упрощает выполнение стандартных операций: навигацию к области интереса, подготовку сечений, нанесение защитного слоя, извлечение ПЭМ-ламелей, утонение, полировку, 3D-томографию и повторяемые сценарии анализа.

Ключевые особенности:

  • Полностью автоматизированная подготовка ПЭМ-образцов;
  • Ga-FIB колонна с током ионного пучка до 100 нА;
  • Электронная UHR-SEM колонна со сверхвысоким разрешением;
  • Низковольтная визуализация с посадочным напряжением до 50 эВ;
  • Ток электронного пучка до 400 нА для задач EDS/EBSD;
  • Возможность работы с металлами, магнитными, непроводящими и чувствительными к пучку материалами;
  • Режим большого поля зрения для удобной навигации по крупным образцам;
  • Система регистрации сигналов с SE и BSE детекторами;
  • Энергетическая фильтрация для повышения контраста и детализации;
  • Автоматическая подготовка поперечных сечений;
  • 3D-модель предотвращения столкновений внутри камеры;
  • Поддержка пользовательских сценариев, пресетов и Python-скриптов;
  • Возможность сохранения рабочих параметров для повторяемых задач;
  • Профессиональное ПО для управления микроскопом, обработки, измерений и архивирования изображений.

Применение

Scietex FIB-SEM Y30 применяется для:

  • Подготовки ПЭМ-образцов и тонких ламелей;
  • Формирования поперечных сечений для анализа внутренней структуры материала;
  • Низковольтной СЭМ-визуализации с высоким поверхностным контрастом;
  • Анализа морфологии, рельефа и материального контраста;
  • 3D FIB-SEM томографии;
  • EDS/EBSD-анализа;
  • Исследования дефектов на заданных плоскостях;
  • Подготовки образцов для атомно-зондовой томографии;
  • Подготовки микростолбиков и структур для механических испытаний;
  • Микро- и нанообработки;
  • Электронно-лучевой и ионно-лучевой литографии;
  • FEBID и FIBID процессов;
  • Прототипирования микро- и наноструктур;
  • Исследования батарейных материалов, катализаторов, тонких плёнок, MEMS-структур, полупроводниковых и композиционных материалов.

Спецификация

  • Электронная колонна UHR-SEM с электронным источником высокой яркости типа Шоттки;
  • Колонна фокусированного ионного пучка (Ga источник);
  • Камера: внутренние размеры 340 мм (Ш) × 315 мм (Г);
  • Активная пневмоподвеска колонны и рабочей камеры;
  • Вакуумная система безамсляная;
  • Моторизованный 5-осевой эвцентрический рабочий столик;
  • Компьютерное управление;
  • ПО для управления электронным микроскопом;
  • ПО для обработки изображений;
  • ПО для измерений и контроля допусков;
  • ПО для архивирования изображений;
  • Камерный SE-детектор Everhart-Thornley;
  • Осевой In-Beam SE-детектор;
  • Многофункциональный In-Beam детектор;
  • Пикоамперметр с функцией сигнализации при касании/столкновении;
  • ИК-камера для обзора камеры образцов.

Опции

  • Наноманипулятор для lift-out операций и манипулирования образцами;
  • Одноканальный модуль газовой инжекции Opti GIS-Pt с прекурсором Pt;
  • SDD детектор Oxford Xplore 30 с активной площадью кристалла 30 мм;
  • Детектор EBIC с ПО API 156 v2.0 — система регистрации тока, наведённого электронным пучком, с функциями управления усилителем. Программное обеспечение API 156 v2.0 включено в российский реестр программного обеспечения;
  • Держатель образца с прижимным контактом;
  • Синхронный детектор (Lock-in) для работы на модулированном сигнале 0-100 кГц (требуется электростатический бланкер в составе микроскопа);
  • Блок смещения с функциями измерения ВАХ, компенсации постоянного тока образца;
  • Детектор катодолюминесценции.

Характеристики

Ионная колонна

Ионный источник

Ga, ресурс не менее 3000 мкА·ч

Разрешение

≤ 2,5 нм при 30 кВ (в точке пересечения SEM и FIB)

Ускоряющее напряжение

500 В — 30 кВ

Ток пучка

Макс. не менее 100 нА

Апертуры

До 30 апертур с пьезокерамическим приводом, каждая заменяется независимо

Электронная колонна

Электронная колонна

Электромагнитно-электростатическая составная линза с ускорением электронного пучка внутри колонны

Источник электронов

Катод типа Шоттки

Разрешение SE

0,9 нм (15 кВ); 1,3 нм (1 кВ)

Разрешение BSE

2,0 нм (30 кВ)

Ускоряющее напряжение

50 В — 30 кВ, плавно с шагом 10 В

Ток электронного пучка

До 400 нА

Увеличение

×4 — ×2 000 000

Поле зрения

6,4 мм (WD 10 мм), 20 мм (WD 30 мм)

Электронно-оптическая колонна

Промежуточная линза, полностью автоматическая юстировка, настройка и калибровка без механической регулировки, точное управление током и размером пятна пучка

Скорость сканирования

20 нс — 10 мс/пиксель, ступенчато или плавно

Вакуумная система

Трёхступенчатая вакуумная система

Ионный, турбомолекулярный и безмасляный сухой форвакуумный насос

Столик образца

Тип

5-осевое моторизованное полностью автоматическое управление (X, Y, R, T, Z)

Ход

X ≥ 240 мм; Y ≥ 145 мм; Z ≥ 48 мм

Наклон

-3°…+70°; вращение: 360° непрерывно; режим – эвцентрический наклон/вращение

Навигация

Встроенная оптическая камера, совмещенная с ПО электронного микроскопа

Камера образцов

Внутренний размер ≥ 340 мм (Ш) × 380 мм (Г); дверца ≥ 340 мм (Ш) ×320 мм (В)

Максимальная нагрузка

До ≥ 4 кг

Виброзащита

Активная система виброподавления

Плазменный очиститель

Встроенный плазмаклинер (опция)

Модуль обработки изображений

ПО обработки изображений

Обработка, измерения и подготовка экспериментальных отчётов

Разрешение изображения

не менее 16384 × 16384

Доп. функции

Измерение твёрдости, 3D-сканирование электронным пучком, таймер выключения и определение целевой области

3D визуализация

Функция 3D-модели для предотвращения столкновений и наглядного отображения взаимосвязи между образцом и различными компонентами камеры

Интерфейс

Язык: китайский, английский