info@scietex.ru +7 499 911 90 01

Система плазменной активации поверхности GD156R

Системы плазменной активации поверхности предназначены для модификации поверхностных свойств материалов с целью повышения их смачиваемости, адгезии и химической активности. Обработка низкотемпературной плазмой позволяет эффективно очищать поверхность от органических загрязнений и активировать её без изменения объёмных свойств материала.

Плазменная активация широко применяется при подготовке образцов и подложек перед нанесением покрытий, склеиванием, напылением тонких плёнок и последующим анализом. Метод обеспечивает формирование стабильной и воспроизводимой поверхности, что особенно важно для лабораторных и технологических процессов.

Современные системы плазменной активации поверхности работают с различными материалами, включая металлы, полимеры, керамику, стекло и полупроводниковые структуры. Возможность выбора режимов обработки и газовой среды позволяет адаптировать процесс под конкретные задачи и требования к поверхности. Системы легко интегрируются в лабораторные комплексы и применяются как самостоятельные установки или в составе цепочки подготовки образцов.

 

Описание

Мы собрали технологии последних лет, учли опыт наших друзей — пользователей электронных микроскопов и создали установки, которые отвечают современным требованиям подготовки образцов.

Система плазменной активации поверхности с форвакуумным насосом GD156R нашей разработки и производства — это настольный прибор, позволяющий очищать поверхность образцов с целью дальнейшего исследования методом электронной микроскопии и получения изображения высокого качества.

Применение

Пробоподготовка образцов к исследованиям методами ЭМ

Система GD156R представляет собой универсальную установку плазменной обработки и активации поверхности и предназначена для подготовки образцов к исследованиям методами электронной микроскопии.

Плазменная очистка — это предварительная обработка поверхности перед исследованиями поверхности образцов, анализом состава вещества, нанесением фоторезиста, вакуумным напылением слоев, пайкой или микросваркой.

В процессе плазменной очистки поверхность материала подвергается химической реакции с ионизированными газами. Свободные радикалы газа взаимодействуют с загрязнением на поверхности, преобразуются в газовую фазу и далее удаляются. Такой способ позволяет достичь прецизионной очистки чувствительных поверхностей, что повышает ее адгезию.

Другой задачей применения плазменной обработки является активация поверхности с помощью плазмы. Время обработки в большинстве случаев составляет несколько минут. Качество активации может проверяется тестовыми чернилами.

Плазменная очистка металлов применяется для получения поверхности, не содержащей оксидов.

Прибор предназначен для работы с широким спектром образцов, обеспечивает их простую загрузку и выгрузку. Система полностью автоматизирована, пользователь может задать алгоритм работы, включающий стадии откачки, дегазации, настроить рабочее давление, напряжение, ток, время обработки.

Спецификация

  1. базовый блок с управляющей электроникой;
  2. магнетрон;
  3. вакуумная сис
  4. тема с форвакуумным насосом;
  5. предметный столик Ø100 мм с вращением;
  6. большая камера Ø156х150 мм из боросиликатного стекла;
  7. сенсорный экран управления 7″;
  8. программное обеспечение API156 на русском языке;
  9. книга «рецептов» по обработке.

Опции

В зависимости от предполагаемой области применения, система напыления может быть дополнительно оснащена:

  • держателем образцов под задачи;
  • различной комплектацией расходных материалов (дополнительный набор уплотнителей, набор для чистки камеры, пинцеты и другое);
  • предметным столиком с нагревом для увеличения адгезии покрытия*;
  • сменной камерой Ø156х150 мм из боросиликатного стекла.

Характеристики

Вакуумная камера

Материал вакуумной камеры

Боросиликатное, прозрачное бесцветное стекло

Внутренний диаметр вакуумной камеры

156 мм

Высота вакуумной камеры

150 мм

Диаметр столика для образцов

100 мм

Вакуумная система

Полностью автоматическая, форвакуумный насос

Производительность форвакуумного насоса

19,8 м3

​Предметный столик

Держатели образцов

Стандартный держатель, держатель под задачи*

Программное обеспечение

​Управление процессом

Графический сенсорный экран 7”

Измерение давления (встроенный датчик вакуума)

Диапазон: 1000 мбар – 10-3 мбар (форв. насос)

Сохранение и загрузка пользов. рецептов

>1000 шт

​Габариты и вес (без опций)

450х300х400 мм, 22 кг