info@scietex.ru +7 499 911 90 01

Система прецизионной ионной полировки и травления

Система для прецизионной пробоподготовки образцов к электронной микроскопии методами ионного утонения, полировки и травления. Система предназначена для точного формирования поверхности и сечений образцов с высоким уровнем воспроизводимости процесса.

Описание

Система для прецизионной пробоподготовки образцов к электронной микроскопии методами ионного утонения, полировки и травления. Система предназначена для точного формирования поверхности и сечений образцов с высоким уровнем воспроизводимости процесса.

Система оснащена прецизионной системой центрирования и контроля фрезерования, столиком с охлаждением, цифровым зум-микроскопом, моторизованными ионными пушками, а также компьютером с программным обеспечением для управления параметрами обработки.

Применение

Система применяется для подготовки образцов в области материаловедения, металлографии, микроэлектроники, полупроводниковой промышленности, а также при исследовании покрытий, многослойных структур и чувствительных материалов.

Оборудование подходит для:

  • ионного утонения образцов;
  • финишной полировки поверхности;
  • травления поперечных сечений;
  • подготовки образцов для СЭМ и ПЭМ;
  • работы с термочувствительными материалами;
  • подготовки образцов, чувствительных к окислению, включая литий, натрий и другие активные материалы.

Опции

Liquid Nitrogen Cooling
Опция предназначена для подготовки образцов термочувствительных материалов. Использование жидкого азота позволяет снижать температуру образца в процессе обработки и минимизировать риск термического воздействия на исследуемую структуру.

Особенности:

  • температура образца: от -70 °C до комнатной температуры;
  • работа в условиях включённой ионной пушки;
  • подходит для чувствительных к нагреву материалов.

Vacuum Transfer
Опция вакуумного переноса образца для работы с чувствительными к окислению материалами, включая литий и натрий. Позволяет переносить образец в перчаточный бокс или другое вакуумное оборудование без контакта с внешней средой.

Особенности:

  • вакуумно-герметичный перенос образца;
  • подходит для окисляющихся материалов;
  • возможность интеграции с перчаточными боксами и другим вакуумным оборудованием;
  • сохранение образца в защищённом состоянии при извлечении из рабочей камеры.

Спецификация

  • прецизионная ионная полировальная система
  • столик с охлаждением;
  • цифровой зум-микроскоп;
  • моторизованные ионные пушки;
  • компьютер с ПО.

Характеристики

Ионные пушки

2

Напряжение ионного пучка

0–10 кВ

Ток ионного пучка

1,5–10 мА/см²

Регулируемый ионный пучок

0 ~ 10 мл/мин

Размер пятна пучка

300–500 мкм или 1,5 мм

Максимальный диаметр образца

до 9 мм, опционально до 30 мм

Вращение столика

360°

Скорость вращения

1–12 об/мин

Угол наклона

0–30°

Вакуумная система

механический и турбомолекулярный насос

Предельный вакуум

до 5×10⁻³ Па

10-дюймовый цветной сенсорный экран

Язык интерфейса

CN / EN