Система прецизионной ионной полировки и травления
Система прецизионной ионной полировки и травления
Описание
Система для прецизионной пробоподготовки образцов к электронной микроскопии методами ионного утонения, полировки и травления. Система предназначена для точного формирования поверхности и сечений образцов с высоким уровнем воспроизводимости процесса.
Система оснащена прецизионной системой центрирования и контроля фрезерования, столиком с охлаждением, цифровым зум-микроскопом, моторизованными ионными пушками, а также компьютером с программным обеспечением для управления параметрами обработки.
Применение
Система применяется для подготовки образцов в области материаловедения, металлографии, микроэлектроники, полупроводниковой промышленности, а также при исследовании покрытий, многослойных структур и чувствительных материалов.
Оборудование подходит для:
- ионного утонения образцов;
- финишной полировки поверхности;
- травления поперечных сечений;
- подготовки образцов для СЭМ и ПЭМ;
- работы с термочувствительными материалами;
- подготовки образцов, чувствительных к окислению, включая литий, натрий и другие активные материалы.
Опции
Liquid Nitrogen Cooling
Опция предназначена для подготовки образцов термочувствительных материалов. Использование жидкого азота позволяет снижать температуру образца в процессе обработки и минимизировать риск термического воздействия на исследуемую структуру.
Особенности:
- температура образца: от -70 °C до комнатной температуры;
- работа в условиях включённой ионной пушки;
- подходит для чувствительных к нагреву материалов.
Vacuum Transfer
Опция вакуумного переноса образца для работы с чувствительными к окислению материалами, включая литий и натрий. Позволяет переносить образец в перчаточный бокс или другое вакуумное оборудование без контакта с внешней средой.
Особенности:
- вакуумно-герметичный перенос образца;
- подходит для окисляющихся материалов;
- возможность интеграции с перчаточными боксами и другим вакуумным оборудованием;
- сохранение образца в защищённом состоянии при извлечении из рабочей камеры.
Спецификация
- прецизионная ионная полировальная система
- столик с охлаждением;
- цифровой зум-микроскоп;
- моторизованные ионные пушки;
- компьютер с ПО.
Характеристики
Ионные пушки
2
Напряжение ионного пучка
0–10 кВ
Ток ионного пучка
1,5–10 мА/см²
Регулируемый ионный пучок
0 ~ 10 мл/мин
Размер пятна пучка
300–500 мкм или 1,5 мм
Максимальный диаметр образца
до 9 мм, опционально до 30 мм
Вращение столика
360°
Скорость вращения
1–12 об/мин
Угол наклона
0–30°
Вакуумная система
механический и турбомолекулярный насос
Предельный вакуум
до 5×10⁻³ Па
10-дюймовый цветной сенсорный экран
Язык интерфейса
CN / EN